정부가 격화되는 글로벌 반도체 경쟁에 대응하기 위해 반도체 산업 지원금액을 기존 26조 원에서 33조 원으로 확대된다. 또, 올해부터 소재와 부품, 장비에 투자 시 기업당 200억 원 한도로 보조금을 새로 지원한다.
정부는 15일 최상목 부총리 겸 기획재정부 장관 주재로 산업경쟁력 강화 관계장관회의를 열고 글로벌 반도체 경쟁력 강화를 위한 재정투자 강화 방안을 발표했다.
방안에는 반도체 인프라 구축과 소재, 부품, 장비 투자 지원, 차세대 반도체 개발, 우수 인재 확보를 위해 기존 26조 원 보다 7조 원 늘어난 33조 원의 재원이 투입된다.
또, 용인과 평택 반도체 클러스터의 조성을 위해 기업이 부담하는 송전선로 지중화 비용의 70%를 국비로 지원하고 반도체와 디스플레이, 이차전지, 바이오 등 국가첨단전략산업 특화단지 인프라 국비 지원 비율을 기존 15∼30%에서 30∼50%로 상향 조정한다.
이와 함께 반도체를 비롯, 디스플레이, 이차전지, 바이오 등 첨단전략산업 공급망 안정품목과 전략물자를 생산하는 중소. 중견기업에는 투자보조금이 지원된다. 이는 신규 투자 규모의 최대 50%까지 지원되며, 기업당 200억 원 한도로, 비수도권 중소기업이 100억 원을 투자할 경우 최대 50억 원까지 보조금이 지급된다.
이 외에 기존 17조 원 규모의 반도체 저리대출을 3조 원 이상 늘려 반도체 분야에 20조 원 이상을 투입한다.
정부는 반도체 기업 지원을 위한 '반도체특별법'이 현재 장기간 국회에 계류 중이어서 반도체 시장 선점에 필요한 골든타임을 놓칠 수 있다는 판단에 따라 추가지원에 나서기로 했다고 밝혔다.
